通常無(wú)塵布抹拭材質(zhì)潔凈度以以下幾個(gè)方面來(lái)定義： 
   1 、 無(wú)塵布發(fā)塵量， 包括在空氣中塵粒釋放量 （ APC ） 和在液體中塵粒釋放量 （Ｌ ＰＣ）。很多人認(rèn)為抖動(dòng)掉屑是無(wú)塵布不可容忍的問(wèn)題，其實(shí)不然，恰恰相反，抖動(dòng)掉屑是無(wú)塵布抹拭材質(zhì)本身的一中物性，只是掉屑多少高低罷了。 
   2 、 無(wú)塵布離子析出量，主要檢查活性高的金屬離子和非金屬離子。如果你的擦 拭的表面有精細(xì)的金屬材質(zhì)的話(huà)，建議對(duì)于離子的析出作為一個(gè)重要的檢查項(xiàng) 目，因?yàn)榛钚缘碾x子很容易通過(guò)電池反應(yīng)破壞精細(xì)金屬的表面。
   3 、 無(wú)塵布在溶劑中不揮發(fā)物量（ NVR ）， 通常使用溶劑，就用什么溶劑來(lái)評(píng)估。殘留物的量通常用精細(xì)的稱(chēng)量設(shè)備來(lái)測(cè)試，但是，用戶(hù)也可以以試抹拭是否起霧的方式來(lái)確定該無(wú)塵布的殘留是否在要求的范 圍內(nèi)（特別注意：檢查燈的強(qiáng)弱對(duì)于測(cè)試的結(jié)果會(huì)有很大的影響，如果在非常強(qiáng)的燈光下，所有的無(wú)塵布抹拭都會(huì) 發(fā)現(xiàn)霧狀殘留 ) 。 
     無(wú)塵布應(yīng)用于半導(dǎo)體裝配、航空制造及維修、試驗(yàn)室、電子行業(yè)、電腦裝配、光電儀器制造、LCD液晶顯示，精細(xì)儀器、光學(xué)產(chǎn)業(yè)、航空工業(yè)及生產(chǎn)線(xiàn)等，特別適用于無(wú)半導(dǎo)體工業(yè)及店址工業(yè)生產(chǎn)的凈化廠(chǎng)房。